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一旦bsec光源研究所在重生者的指引下,在arf准分子激光器专利技术的基础上,研制成功arfi准分子激光器和浸没式光刻系统,虽然浸没式光刻系统的专利技术属于bsec,但根据双方签订的专利技术转让协定,arfi准分子激光器的专利技术就属于gca!
gca生产arfi准分子激光器,购买bsec的浸没式光刻系统专利技术,也能生产浸没式光刻机。
早一日研制成功8英寸晶圆、350n制程工艺的磁悬浮式双工作台系统,制程工艺最高就能提升到250n,凭借提高35的生产效率,gikon光刻机的高端市场份额,夺回全球高端光刻机市场。
峰回路转!
艾德里安、汤普森的心情比魏建国、邓国辉还急迫。
谈判和签订专利技术转让协定期间,孙健不在京城,艾德里安和魏建国都拿着他签署的代理书谈判,双方公司的律师在场监督,并在专利技术转让协定上签字证明。
专利技术转让协定符合中美法律。
巴t协定禁止8英寸晶圆和500n制程工艺的半导体生产线出口中g,但没有禁止arf准分子激光器出口,800n制程工艺专利技术也不在禁令之中。
美国人知道就是中g光刻机公司耗费巨资买到了arf准分子激光器和800n制程工艺专利技术,也生产不出6英寸晶圆和800n制程工艺的半导体生产线。
光刻机被称为半导体产业皇冠上的明珠,占一条半导体生产线总投资的13,除了光源、镜头和工作台三大核心技术之外,还需要光速矫正器、能量控制器、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台和光束形状设置,复杂程度超过大型航空发动机。
就像一般飞机制造厂买到一台顶级航空发动机,也不能生产顶级飞机。
国内光刻机半导体设备产业停滞了近十年,相关配套产业掉队太远,不是短时间用钱能买来的!
bsec如今拿到了arf准分子激光器和800n制程工艺专利技术,还有独创的磁悬浮式双工作台系统,既不能生产8英寸晶圆、800n制程工艺的光刻机,也不能生产6英寸晶圆、800n制程工艺的半导体生产线。
bsec还要去买先进的光学系统,进口6英寸晶圆、光刻胶、掩膜版等材料和设备,经过系统合成,就是能生产6英寸晶圆、800n制程工艺的光刻机,只能算组装。
前世asl生产的euv光刻机,据说90的零部件都是从全球5000多家公司采购的,但euv光源(收购了cyer)和双工作台系统等关键技术是自己的,还参股了zeiss st ag近三成的股权,将光刻机的三大核心技术掌握在手里,由于垄断经营,净利润高达五成,全球5000多家零部件公司排队供应零部件。
只要搭上asl这列豪华列车,零部件公司的股价就会暴涨。
各国制定的《反垄断法》在asl面前如同一张白纸!
邓国辉拿到arf准分子激光器专利技术,同光源研究所所长助理钱富强仔细研究一番后,如醍醐灌顶,豁然开朗,第二天就申请2000万元的研发资金,定购新的机器设备和材料,如今带领光源研究所在新的实验室内,按照gca提供的技术图纸,消化吸收arf准分子激光器专利技术,为研究arfi准分子激光器和浸入式系统做准备。
等机器设备和材料到位后,光源厂工程师和技师将按照光源研究所提供的技术图纸,生产
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