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    对于EUV光刻机的研发，困难很多，主要还是在光源这块。

    陈怀庆并不急迫，也没有想着说，EUV光刻机在短时间就能够搞定。

    他心理的预期，在二十年内研发成功，那就完全的没有问题。

    毕竟，EUV光刻机主要用于10纳米以下。

    但是也并不是就只有EUV光刻机能够实现10纳米以下制程，像是DUV光刻机，最高能够实现7纳米制程节点。

    甚至陈怀庆还知道，就民用产品而言，14纳米的芯片，性能上面已经够用，甚至可以说，在性能上还过剩。

    依照现在墨塔微电的发展形势来讲，陈怀庆不觉得说，以后掌握14纳米光刻机技术有任何的问题。

    就技术而言，墨塔微电在全球光刻机领域，也是第一梯队的。

    特别是后道光刻机领域，墨塔微电属于全球第一的存在，其他光刻机企业根本就没法和墨塔微电进行竞争。

    优势太过于明显了。

    意味着，在未来五年时间里面，华国在半导体领域，都不用担心被人超越，一直保持在全球第一梯队上面。

    即使发现有问题，一时半会也转不了弯。

    技术门槛和技术壁垒都太高了，根本就不是一般国家，能够玩得转的东西。

    此时，全球范围内，现在主要的都是干式光刻机，以空气为介质，193nm波长的光线，直接进行光刻。

    有了切肤之痛之后，大家算是实实在在的放弃了幻想，准备战斗。

    墨塔微电现在已经是一家成熟的企业，陈怀庆除了要求继续坚持研发投入和提升国产化率之外，其他的倒是并没有说什么。

    “老板，这是我们浸润式DUV光刻机样机。”

    天下英才何其多，不可能每一位都在吾彀。

    意识到浸润式技术的技术难度更低、更容易实现之后，墨塔微电就迅速的投入了这项技术的研发。

    墨塔微电在之前的时候，自然也是搞的干式光刻机，而在干式光刻机领域，康尼和能佳属于超级巨头。

    墨塔微电只能够排在第三位。

    墨塔微电的ArF光源光刻机研发进展的也相当顺利。能够如此的顺利，和墨塔微电集合了整个华国的最尖端人才，以及获得国家力量全力支持有着决定性的关系。

    因为什么？

    这条技术路线上面，不是关系一个两个人，而是一串的人。

    很顺理成章的就把市场给占了。

    而且当时的时候，民用电脑、手机，都是出现了性能过剩的情况。

    主要在霓虹、华国、北美和欧洲。

    之前投入的钱，全部都打水漂了。

    第四代深紫外光(DUV)ArF光源已经研发成功了，现在就剩下不断的进行完善。

    EUV光刻机的研发成功，才是彻底成就了阿斯麦在光刻机领域的霸主地位。

    没有邀请到林本建，虽然可惜了点，但陈怀庆也没有在意。

    而浸润式技术即在光刻机中，采用水为介质，让193nm波长的光线，进入水中进行折射后，让波长变成132纳米，从而实现从45nm-10nm级别的光刻。

    注意，这里不是说的企业！

    企业很强，但是在国家面前，再强的企业也很弱。

    并且和这项技术的提出者取得联系，邀请他加入项目。

    至于说全球其他地区，已经在这块没有资格了。

    既然作为竞争对手，那么自然就是得要收集情报。

    但有的时候，邀请并不是无往不利的。

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