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在asl成功的道路上，有两大机遇。
一是浸润式光刻技术，由此对应着duv光刻机。
一是深紫外线光刻机技术，由此对应着euv光刻机。
九十年代，干式光刻机技术大行其道，其芯片生产工艺达到了65n，接下来的目标是向着45n前进。
然而干式光刻机使用的是干式介质，采用的光线有一大堆问题，非常难以解决。
这时候某电的林本坚就提出了一个观点，即用水来充当介质。
经过试验，他发现这一思路是可行的。
彼时的光刻机巨头尼康、佳能。
这些大厂早就在干式光刻机上投入了几十亿美元研究，投入太多，无法改弦更张。
而asl因为是一家小厂，秉承着光脚不怕穿鞋的理念，和某电合力研发浸润式光刻机了。
最后就是asl与台积电研发浸润式光刻机成功了。
这就是duv光刻机。
经过了多年的发展，目前，duv光刻机已经可以满足绝大多数需求，可以覆盖7n及以上制程需求。
到了这时候，学者们的普遍观点是，euv将是下一代光刻技术。
euv光刻机采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到135n，能满足10n以下的晶圆制造，并且还可以向5n、3n继续延伸。
另外值得一提，早在20世纪80年代，大约是1985年，就有学者开始研究euv光刻技术。
只可惜技术一直达不到要求，而且要消耗大量的资金，因此这一技术发展缓慢。
直到2015年，euv光刻机才进入可量产阶段。
“我记得之前看过资料，一台euv光刻机的造价高达6500万美元，如果初期研究，投入的花销还会更多，所以目前，我应该推进浸润式光刻机的发展，这是符合时代潮流的，等通过浸润式光刻机将星火电子厂做大做强后，再来推进euv光刻机的研究。”
“虽然我可以从万界商城中购买到全套技术，但以目前的环境、人才、社会形势，还不到拿出完整浸润式光刻机的时候，还需要等待啊。”
这个世界是复杂的，联动的。
并不是有技术就可以为所欲为。
君不见脚盆鸡在半导体如日中天，却被美爹以非常非常血腥的方式瓜分肢解。
君不见华为前脚遥遥领先，后脚就被美帝无耻打压。
曹卫东对此很警惕。
很快，他就在心里制定了一套方案。
一方面，联合神州科学院，悄然进行浸润式光刻机的研究。
另一方面，提醒国家，以应对西方世界发动的舆论战，防止出现自废武功的事情。
“咦，这样的话，我似乎可以成立一个战忽局了，芯片战忽局？”
“什么浸润式光刻机，那只是干式光刻机改而已”
“什么10n，就是比常规芯片小一点而已”
“什么浸润式技术，什么euv光刻技术，干式光刻技术才是未来的王道！”
“美帝，你看我们旁边的脚盆鸡、韩棒子、阿三哥，他们都有狼子野心啊”
想到这里，曹卫东表情瞬间变得古怪起来。
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